减少overlay误差对于提高产量和可靠性,并且确保组件符合性能规格而言非常重要,本文将针对向EUVL转型概述一些相关的可预见的overlay挑战。 Overlay是IC制造中的关键参数之,其意义是当层与前层图案(pattern)间对准的精准度(图1)。 各层组件之间的电路链接,例如 ...
August 26, 2014. Today, KLA-Tencor Corp. introduced the WaferSight PWG patterned wafer geometry measurement system, the LMS IPRO6 reticle pattern placement metrology system and the K-T Analyzer 9.0 ...